就镀膜工艺而言，真空技术的应用体现在哪些方面？
在许多镀膜工艺中（例如：金属、塑料或玻璃以蒸汽形态沉积），真空技术扮演着决定性的作用。在很多情况下，离开真空，就无法实现这些工艺。一般在工艺开始之初，对腔室施加中度或高度真空，以便真空排气，再抽除反应气体或者气化固体原材料。
这些镀膜工艺都有一个共同的要求：腔室必须保持完全符合镀膜工艺要求的中度或高度真空。这些镀膜工艺有助于改变材料的表面特征，例如硬度或耐腐蚀性。此外，真空镀膜也可以改善材料的附着性或湿润性，或者让材料表面保持永久疏水性或亲水性。
我们的真空系统可以为以真空为基础的镀膜工艺量身定制。
凯利特真空技术在镀膜工艺中的应用范例：
• 物理气相沉积（PVD）
• 化学气相沉积（CVD )
• 等离子增强沉积
• 金属镀膜